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1200℃单/双温区CVD系统

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品牌: 天津中环
最高温度: 1200℃
控制精度: ±1℃
±1℃: 质量流量计
单价: 面议
所在地: 天津
有效期至: 长期有效
最后更新: 2018-06-07 11:35
浏览次数: 513
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公司基本资料信息
详细说明
产品用途

此款CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。

产品组成:

此款CVD系统配置:

1.1200度开启式真空管式炉(可选配单温区、双温区)。

2.多路质量流量控制系统

3.真空系统(可选配中真空或高真空)

产品特点:

1 控制电路选用模糊PID程控技术,该技术控温精度高,热惯性小,温度不过冲,性能可靠,操作简单。

2 气路快速连接法兰结构采用本公司独有的知识产权专利设计,提高操作便捷性。

3 中真空系统具有真空度上下限自动控制功能,高真空系统采用高压强,耐冲击分子泵

防止意外漏气造成分子泵损坏,延长系统使用寿命。


 
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